2017年11月3日，奧林巴斯在武漢萬(wàn)達威斯汀酒店隆重舉辦了3D測量激光顯微鏡新品——OLS5000的發(fā)布會(huì )。OLS5000將為科研人員帶來(lái)更專(zhuān)業(yè)、便捷的觀(guān)測體驗，它采用的共聚焦技術(shù)將助力科研人員獲得高清晰高分辨率的圖像，搭載的掃描算法和自動(dòng)數據采集功能，可在不進(jìn)行復雜調整的情況下快速獲取數據。發(fā)布會(huì )上，奧林巴斯日本總部的產(chǎn)品專(zhuān)家進(jìn)行了新產(chǎn)品相關(guān)的介紹和講座，多角度的介紹讓到場(chǎng)觀(guān)眾對新產(chǎn)品有了更全面的了解。

高速清晰成像，準確數據獲取

傳統的光學(xué)顯微鏡已經(jīng)可以獲得樣品微小細節的圖像，但是工業(yè)領(lǐng)域的研究需要更清晰地觀(guān)察更微小的各種樣品，并獲得樣品的三維形貌。一般顯微鏡采用散射型光線(xiàn)的場(chǎng)光源，在觀(guān)察樣品時(shí)，入射光線(xiàn)同時(shí)照射焦平面和相鄰的點(diǎn)，并同時(shí)成像，因此干擾較多，呈現的圖像不夠清晰。而OLS5000搭載的共聚焦技術(shù)采用了點(diǎn)照明的方式，通過(guò)焦平面反射入顯微鏡的光線(xiàn)需要經(jīng)過(guò)微小的針孔，來(lái)自焦平面以外的光線(xiàn)被阻擋住，大大減少了干擾，提高了圖像的清晰度。同時(shí)，OLS5000可容納高達210毫米樣品的擴展架，可測量深度高達25毫米凹坑的超長(cháng)工作距離物鏡，將助力工業(yè)領(lǐng)域的研究人員對具有挑戰性的樣品進(jìn)行觀(guān)測，即使是對于普通顯微鏡來(lái)說(shuō)較長(cháng)的連接桿和體積較大的活塞頭，OLS5000也可輕松應對。

除了具有無(wú)損觀(guān)測、成像清晰的特點(diǎn)以外，OLS5000的數據獲取和處理功能也將簡(jiǎn)化研究人員的工作，提高生產(chǎn)力。OLS5000采用計算機直觀(guān)控制，它搭載的掃描算法，可通過(guò)計算機的處理、轉換，快速獲得完整帶有高度信息的樣品表面圖像，并通過(guò)對樣品不同層面的掃描和計算機處理，獲得3D圖像。其采用的自動(dòng)數據采集功能在測量時(shí)，只需在放置樣品后按動(dòng)按鈕，設備將自動(dòng)進(jìn)行工作，無(wú)需進(jìn)行復雜的設置調整，即使是不熟練的用戶(hù)也可獲得準確的檢測結果，有效地簡(jiǎn)化了工作流程。

前沿光學(xué)科技推動(dòng)工業(yè)發(fā)展

 

目前，奧林巴斯工業(yè)專(zhuān)用激光共聚焦顯微鏡的中國市場(chǎng)占有率處于領(lǐng)先地位，國內用戶(hù)達到了數百家，其中包括了中科院半導體所、清華大學(xué)等在內的多家研究所、企業(yè)和學(xué)校。新產(chǎn)品也將被應用于包括半導體、MEMS（微機電系統）、高精密PCB（印制電路板）制造、化學(xué)薄膜在內的多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域。

半導體和MEMS（微機電系統）領(lǐng)域的樣品進(jìn)行顯影、金屬化、焊接等工藝后，需要進(jìn)行表面形貌觀(guān)察，OLS5000的高清晰成像特性將幫助研究人員檢查樣品，排除問(wèn)題。同時(shí)，針對高精密PCB（印制電路板）制造、化學(xué)薄膜等領(lǐng)域的微米和亞微米級別部件尺寸測量的工作，OLS5000也將憑借自動(dòng)數據采集功能，助力科研人員的觀(guān)測。

OLS5000的無(wú)損、高清晰成像和快速數據獲取的特點(diǎn)，將帶給工業(yè)領(lǐng)域研究人員更專(zhuān)業(yè)、便捷的觀(guān)測體驗。奧林巴斯自1920年自主研發(fā)了日本第一臺商用顯微鏡“旭號”開(kāi)始，就一直在顯微鏡領(lǐng)域攻克難關(guān)，進(jìn)行光學(xué)技術(shù)的創(chuàng )新，始終站在顯微鏡領(lǐng)域發(fā)展的前沿。依托自身在光學(xué)領(lǐng)域累積的先進(jìn)技術(shù)和經(jīng)驗，奧林巴斯不斷進(jìn)取開(kāi)拓，研發(fā)先進(jìn)的顯微鏡產(chǎn)品。秉承“Social IN”的經(jīng)營(yíng)理念，奧林巴斯將持續為工業(yè)領(lǐng)域提供各種先進(jìn)的科研和檢測儀器，助力中國工業(yè)領(lǐng)域的前進(jìn)與發(fā)展。